产品单价 |
130000.00元/台 |
起订量 |
1台 |
供货总量 |
100000 台 |
发货期限 |
自买家付款之日起7天内发货 |
品牌 |
无锡光刻 |
光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础,是集成电路重要的加工工艺。光刻 胶在紫外光的照射下发生化学变化,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版上的 图形转移到硅片上形成集成电路。本设备是我公司针对企业及科研单位研发的一种精密光刻机,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。
二、主要性能指标 1、 曝光类型:单面;
2、 曝光面积:110×110mm;
3、 曝光照度不均匀性:≤±5%;
4、 紫外光束角:≤5°
5、 紫外光中心波长:254nm/365nm(出厂时标准配置为 365nm,其他波段可选配,需在订货 时提出);
6、 紫外光源时间:≥2 万小时;
7、 采用电子快门;
8、 曝光分辨率:2μm;
9、 显微镜扫描范围:X:±50mm,Y:±50mm;
10、 对准范围:X、Y 调节±6.5mm,Q 向 360°粗调,±5°精调;
11、 套刻精度:2μm(用户的“版”、“片”精度符合国家规定,环境、温度、湿度、 尘埃能得到严格控制,采用进口正性光刻胶,且匀胶厚度能得到严格控制,加之前后工艺);
12、 曝光方式:接触式曝光;
13、 显微系统:单目 CCD 显微系统,2000 倍金相同轴光显微镜;光学放大倍数 0.7X-4.5X; 高清 2K 工业 CCD 相机;LED 同轴光源;13.3 寸挂屏;
14、 掩模版尺寸:≤127×127mm;
15、 基片尺寸:≤Φ100mm;
16、 基片厚度:≤5mm;
17、 曝光定时:0~999.9 秒(可调);
18、 电源:单相 AC220V 50HZ;
19、 设备所需能源:220V±10%,50HZ;
无锡光刻电子有限公司 | |||
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联系人 | 李经理 |
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主营产品 | 激光直写光刻机,二手进口光刻机,深硅刻蚀机,涂胶显影机 | 网址 | http://galliumnitride.b2b.huangye88.com/ |