用于半导体行业大批量生产的光刻解决方案

本设备系统是光刻工艺中高度可靠、准确和快速 的叠加，是半导体制造行业高产量的关键。凭借其为满足特 定工艺要求而设计的多种对准技术及其高度自动化，提供一 流的对准精度以实现佳生产结果。

UV-LED 光源

选用 UV-LED 光源不再需要预热和冷却，因为 LED 仅在曝光 期间打开。这些因素显着有助于相对较低的能源消耗。LED 的 使用寿命比传统灯高出许多倍，从而降低了更换灯泡所产生 的成本。停工、购买新灯、调整和处理旧材料都已成为过去。 使用 LED 灯箱既安全又环保，是健康和职业安全以及环境保 护方面的重要进步。

的光均匀性

作为全场曝光系统，能够一次曝光 150mm ／200mm 晶圆，此系统光均匀性已超过 95％，更能提升产品 品质。它更高的吞吐量和更低的投资成本直接转化为更低的 拥有成本，使其成为适用于各种光刻工艺的佳决方案。 采用顶部对准系统，选用高清相机及大视野镜头，纳米级对位 承载平台以及低频隔振系统，在将掩模定位在晶圆上时可实现 低至 0.1μm 的对准精度。 模式识别，大限度减少操作员协助 通过行业的光均匀性和高度的间隙控制实现出色的均匀性。

自动套刻系统

采用顶部对准系统，选用高清相机及大视野镜头，纳米级对位 承载平台以及低频隔振系统，在将掩模定位在晶圆上时可实现 低至 0.1μm 的对准精度。

亮点

模式识别，大限度减少操作员协助 通过行业的光均匀性和高度的间隙控制实现出色的均匀性

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